Résumé IA · arXiv: 2610.41890v1 · quant-ph

Control-Noise Trade-offs in Industrially Integrated ${}^{28}\mathrm{Si}/\mathrm{SiGe}$ Spin-1/2 Qubits

Leon C. Camenzind, Ik Kyeong Jin, Yi-Hsien Wu, Akito Noiri, Kenta Takeda, Takashi Nakajima, Takashi Kobayashi, Giordano Scappucci,
et 1 autre auteurSeigo Tarucha
Article original Soumis à arXiv le 30 Oct. 2026 28 pages, 4 main figures and 5 extended data figures Licence : NONEXCLUSIVE-DISTRIB 1.0 Aussi en : en

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L’essentiel

Des qubits de spin en silicium fabriqués sur une ligne industrielle de 300 mm atteignent une fidélité de porte proche de 99,99 %, avec un compromis entre sensibilité au bruit et efficacité du contrôle.

Question

Comment la fabrication industrielle et l’intégration dense des dispositifs influencent-elles le contrôle et le bruit des qubits de spin en silicium ? L’étude compare des dispositifs Intel à un dispositif de référence fabriqué au RIKEN.

Méthode

Les auteurs caractérisent des dispositifs à trois qubits fabriqués par le procédé Intel compatible avec les lignes de 300 mm et les comparent à un dispositif RIKEN à cinq qubits. Ils mesurent la cohérence par Ramsey, écho de Hahn et séquences CPMG, analysent les spectres et corrélations du bruit, puis évaluent les portes π/2 par benchmarking aléatoire.

Résultats

  • Résultat Les qubits Intel présentent une cohérence d’écho médiane d’environ 200 μs, contre environ 70 μs pour le dispositif RIKEN, et une cohérence CPMG médiane de 3,88 ± 0,09 ms à 1 024 impulsions, contre 1,49 ± 0,31 ms.
    Voir le passage dans l’article
    Under Hahn echo, the Intel (RIKEN) qubits exhibit median coherence times $T_{2}^{\mathrm{echo}}\approx 200~\mu\mathrm{s}$ ($\approx 70~\mu\mathrm{s}$), consistent with reduced charge-noise susceptibility arising from the weaker longitudinal magnetic-field gradient in the industrial devices.
  • Résultat Les qubits industriels atteignent des fidélités de porte primitive π/2 proches de 99,99 %, tandis que la référence RIKEN atteint 99,999 %.
    Voir le passage dans l’article
    Despite the weaker control gradient, the Intel devices achieve primitive $\pi/2$-gate fidelities near $99.99\%$, while the RIKEN reference reaches $99.999\%$.
  • Résultat La puissance nominale médiane nécessaire pour atteindre 1 MHz est supérieure de 7,7 dB dans le dispositif Intel, ce que les auteurs relient au gradient transverse plus faible.
    Voir le passage dans l’article
    The measured median source microwave power required to reach 1 MHz is $7.7~\mathrm{dB}$ higher in the Intel array than in the RIKEN reference (Fig. 1h).
  • Interprétation des auteurs Les corrélations de bruit entre qubits sont nettement plus faibles dans le dispositif industriel, ce qui est cohérent avec une contribution accrue de bruit nucléaire non corrélé à basse fréquence.
    Voir le passage dans l’article
    The reduced correlation magnitudes therefore support the interpretation that uncorrelated residual nuclear-spin noise dominates the low-frequency spectrum, masking weaker charge-noise correlations.
  • Interprétation des auteurs La séparation micromant- puits quantique plus grande dans l’intégration Intel affaiblit les gradients : le gradient longitudinal réduit la conversion du bruit de charge en bruit de fréquence, tandis que le gradient transverse plus faible diminue l’efficacité EDSR.
    Voir le passage dans l’article
    The weaker $\nabla B_{\parallel}$ suppresses the conversion of low-frequency electric-field noise into qubit-frequency fluctuations, whereas the weaker $\nabla B_{\perp}$ reduces EDSR efficiency and requires higher drive amplitude to reach the same Rabi frequency.

Limites

  • La comparaison porte sur les dispositifs Intel étudiés et une référence RIKEN, qui diffèrent par leur fabrication, leur intégration et certains paramètres de leur hétérostructure ; les effets ne peuvent donc pas être attribués uniquement au procédé industriel.
    Voir le passage dans l’article
    Although the heterostructures are nominally similar and isotopically enriched to the same residual 29Si concentration, the devices differ both in fabrication process and in the integration of qubits, micromagnets, and control wiring.
  • La puissance micro-onde rapportée est une valeur nominale calibrée à température ambiante, et non une mesure directe de la puissance délivrée au qubit.
    Voir le passage dans l’article
    A full in-situ calibration of the power delivered to each qubit is outside the scope of this work.
  • Les mesures ne permettent pas de départager une contribution du bruit induit par les micro-ondes d’un effet dépendant de la durée d’irradiation, tel que le chauffage ou l’activation de fluctuateurs.
    Voir le passage dans l’article
    The measurements do not distinguish between these two effects.

Portée

Les résultats montrent que des dispositifs de spin fabriqués sur une ligne industrielle de 300 mm peuvent conserver une très haute fidélité, tout en faisant apparaître un compromis lié au placement des micromants dans un routage dense. Les auteurs en déduisent que l’architecture de routage et le placement des micromants doivent être conçus conjointement pour préserver les gradients nécessaires au contrôle et limiter la sensibilité au bruit.

Rédigé par une IA à partir de l’article. Les passages cités sont vérifiés mot pour mot dans le texte analysé ; le reste peut contenir des erreurs.

Mots clés générés par l'IA : qubits de spin électroniques silicium-28/silicium-germanium cohérence quantique micromagnets fidélité des portes quantiques

Pour aller plus loin

  • Résumé Complet
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  • Abstract original
L’article étudie les effets de l’intégration industrielle de qubits de spin électroniques dans le silicium-28/silicium-germanium sur le bruit, la cohérence et la qualité du contrôle. Il examine si une fabrication compatible avec les procédés de semi-conducteurs à grande échelle et un câblage dense permettent de préserver les performances des qubits, ainsi que les compromis liés aux choix de conception. Les auteurs comparent deux dispositifs Intel à trois qubits, fabriqués selon un procédé industriel de 300 mm, à un dispositif de référence à cinq qubits fabriqué dans la salle blanche de recherche RIKEN. Les trois plateformes utilisent des puits quantiques enrichis en silicium-28, qui contiennent environ 800 ppm de silicium-29 résiduel. Elles diffèrent toutefois par leur géométrie, leur procédé de fabrication et l’emplacement de leurs micromagnets. Dans les dispositifs Intel, ceux-ci sont intégrés à la couche diélectrique du câblage arrière et se trouvent plus loin du puits quantique que dans le dispositif RIKEN. Les chercheurs mesurent les gradients magnétiques, les puissances micro-ondes nécessaires au contrôle, les temps de cohérence de Ramsey, d’écho de Hahn et de CPMG, ainsi que les fluctuations de fréquence et leurs corrélations entre qubits. Ils évaluent également la fidélité des portes par benchmark aléatoire, en faisant varier la fréquence de Rabi. Des mesures du bruit électrique à l’aide de capteurs et des expériences sous irradiation micro-onde complètent l’analyse. Les puissances de contrôle indiquées sont des valeurs nominales, calibrées à température ambiante; elles ne correspondent pas à des mesures directes de la puissance reçue par chaque qubit. Le principal résultat met en évidence un compromis entre la réduction du bruit de charge et l’efficacité du contrôle. Les gradients magnétiques plus faibles des dispositifs Intel convertissent moins efficacement les fluctuations électriques en fluctuations de fréquence des qubits. Leurs temps de cohérence sont généralement plus longs : le temps médian d’écho de Hahn est d’environ 200 microsecondes, contre environ 70 microsecondes pour le dispositif RIKEN. Avec 1 024 impulsions CPMG, les deux qubits Intel mesurés atteignent une cohérence médiane de 3,88 ± 0,09 millisecondes, contre 1,49 ± 0,31 milliseconde pour les cinq qubits RIKEN. Dans les deux plateformes, les spectres à haute fréquence présentent un bruit de type 1/f, mais le bruit de fréquence est plus faible dans les dispositifs Intel. Les spectres de charge mesurés par les capteurs sont pourtant comparables, voire légèrement plus élevés dans le dispositif industriel. La différence semble donc surtout tenir à une sensibilité moindre des qubits Intel, plutôt qu’à un environnement électrique plus silencieux. Les signatures à basse fréquence diffèrent également. Le dispositif RIKEN présente des variations entre qubits, des caractéristiques attribuées à des fluctuateurs de charge individuels et de fortes corrélations entre qubits voisins. Ces corrélations sont beaucoup plus faibles dans les dispositifs Intel. Les auteurs attribuent une partie du bruit à basse fréquence à des spins nucléaires résiduels, notamment ceux du silicium-29. Les configurations à trois électrons présentent moins de bruit à basse fréquence que celles à un électron, ce qui concorde avec l’hypothèse d’une fonction d’onde plus étendue, moyennant davantage le champ nucléaire.

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Mis à jour le 3 novembre 2026.

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